장비 상세
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고출력 레이저 다축 표면처리 시스템
- 장비명
- 고출력 레이저 다축 표면처리 시스템
- 모델명
- 고출력 레이저 다축 표면처리 시스템
- 제조사
- 이노6(Korea)
- 제조국가
- 장비위치
- 3D융합기술지원센터(본관)
- 첨부파일
- -
- 장비설명
- - 1kW급 펄스(나노초) 레이저와 다축(5축) 가공 스테이지 연동을 통한 금형, 정밀기계부품, 자동차부품 및 난삭성 소재기반 부품들의 열처리, 레이저 연마, 크리닝 등 고품질 레이저 표면처리 지원 가능 장비
- 레이저,광학 스캐너,5축 가공 스테이지를 활용한 3차원 기반 고품질 레이저 프로세싱 지원 장비
- 규격
- 1. Laser
1) Laser type : Nanosecond laser
2) Average power : 1kW 이상
3) Wavelength : 1030nm
4) Pulse Duration : 30ns
5) Pulse Energy : 100mJ
6) Max. repetition rate : 50kHz
2. 5-axis stage
1) Processing area : 250mm x 250mm
2) Linear scale : ± 15㎛
3) Repea
- 활용용도
- -
장비 이용 시간 선택
01. 날짜선택
- 예약있음
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03. 선택확인
선택된 장비 : 고출력 레이저 다축 표면처리 시스템
- 시작일 :
- 미정
- 종료일 :
- 미정