장비 상세
< 이전화면
고출력 고반복률 펨토초 레이저
- 장비명
- 고출력 고반복률 펨토초 레이저
- 모델명
- 고출력 고반복률 펨토초 레이저
- 제조사
- AMPHOS(Germany)
- 제조국가
- 장비위치
- 3D융합기술지원센터(본관)
- 첨부파일
- -
- 장비설명
- 본 장비는 분말, 벌크 및 박막 시료에 대한 정성/정량적 분석을 위한 장비이며, 일반 분말, 박막, 결정 구조적 특성, 구조정보 분석과 같은 여러 가지 어플리케이션으로 활용 가능함
- 규격
- Wavelength : 1,030 nm
Pulse time duration : 900 fs ~ 10 ps
Repetition rate : 400 kHz ~ 1 MHz
Beam quality : M2<1.5
Average output power: >200 W
- 활용용도
- 높은 펄스에너지 및 펄스 반복률을 가진 극초단 펄스레이저
응용 기초 연구 및 제품의 초기 양산화 기술 개발
장비 이용 시간 선택
01. 날짜선택
- 예약있음
- 일
- 월
- 화
- 수
- 목
- 금
- 토
02. 시간선택
03. 선택확인
선택된 장비 : 고출력 고반복률 펨토초 레이저
- 시작일 :
- 미정
- 종료일 :
- 미정